金刚石凭借独一无二的光学、热学综合性能，打通激光光学与第三代半导体两大高端赛道，而微波等离子体 CVD（MPCVD 设备）是量产高纯、大尺寸功能金刚石的核心工艺载体。沃特塞恩自研系列 MPCVD 设备，专为光学窗口、半导体热沉打造一站式国产 MPCVD 设备装备解决方案。

在高能激光行业，金刚石光学窗口是核心耐受部件。其紫外至红外全波段高透光、极低光吸收、超高抗激光损伤阈值，远优于硒化锌、蓝宝石材质，可稳定适配千瓦级工业激光器、科研高能光源、雷达光学系统。传统材料长期高功率照射易热畸变、炸裂，金刚石窗口凭借自身优秀导热同步散热，大幅延长光路使用寿命，成为高端激光设备刚需配件。光学级金刚石对晶体纯度、表面均匀度要求严苛，微量杂质便会造成光束损耗，唯有高性能 MPCVD 设备才能满足生长所需的等离子体洁净度严苛门槛。

半导体产业飞速迭代下，金刚石热沉成为解决大功率器件散热痛点的关键材料。AI 算力芯片、SiC 射频器件、5G/6G 基站功放持续走高功耗，铜、铝传统散热基材已无法匹配散热需求。金刚石热导率超 2000W/(m・K)，是铜材五倍以上，可快速导出芯片集中热量，降低器件结温，减少热失效概率，提升设备功率密度与运行稳定性，是宽禁带半导体封装的核心散热基材，市场需求持续放量。想要量产大尺寸、高均匀多晶金刚石热沉片，必须依托大腔体、高稳定的工业化 MPCVD 设备完成批量制备。

成都沃特塞恩依托自主固态微波源核心技术，打造全系列标准化MPCVD设备，其中两款代表性机型特别适配光学单晶与多晶热沉两类金刚石制品的生产需求。全系MPCVD设备自研 915MHz/2450MHz 双频段固态功率源，无电极放电结构彻底规避金属杂质污染，等离子体密度、衬底温度全流程闭环精密调控，依托沃特塞恩 MPCVD 设备可稳定生长低缺陷、高纯度金刚石晶体。

中小功率 HMPS-2100SP 型 MPCVD 设备腔体紧凑，适配 3 英寸内单晶光学金刚石研发与小批量生产，满足实验室、光学元件厂商试制需求；75kW 大功率 915MHz 大型 MPCVD 设备采用大容积环形谐振腔，均匀沉积区覆盖 8 英寸以上，能够稳定量产大面积金刚石热沉片，适配半导体散热材料规模化产线。整套 MPCVD 设备配备半导体级高真空系统、全自动供气与智能监控软件，生长参数可固化存档，一台沃特塞恩 MPCVD 设备即可兼顾工艺研发与工业化量产双重场景。

915MHz/75kW MPCVD设备

当前高端金刚石材料长期依赖进口 MPCVD 设备，国内产业链制备环节存在明显短板。沃特塞恩以自研国产 MPCVD 设备为核心抓手，打通光学窗口、半导体热沉材料制备关键环节，依靠自主可控的 MPCVD 设备助力激光、半导体全产业链国产化升级。