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微波等离子体CVD设备
MPCVD设备
HMPS-2060SP微波等离子体(CVD)系统

沃特塞恩旗下的和瑞微波事业部专业从事微波能、微波等离子体应用技术研发及MPCVD设备生产、具有多项自主知识产权……,我司生产的这款型号为HMPS-2060SP的微波等离子体CVD设备具有以下优势特点:

. 采用沃特塞恩第三代高稳定固态功率源;上馈式圆柱型放电腔。

. 性能先进,安全、可靠性强、重现性好,操作简便。

. 多参数实时监测、采集与记录,PLC屏幕控制,多重联锁保护。

技术规格
(1)型号HMPS-2060SP
(2)电源 AC380±10% V 三相五线制 50Hz,额定输入<18KVA
(3)微波输出功率 0.5~6kW 连续可调
(4)功率稳定度  1%(@稳态)
(5)纹波≤1%
(6)微波频率   2450MHz±50MHz
(7)测温方式     红外300~1400℃
(8)极限真空度 6×10-6torr
(9)腔体内工作压力   7torr~250torr
(10)样品台 Φ60mm
(11)样品台轴向调节范围 0-60mm
(12)工作气氛五路(可用户定制)
(13)微波泄漏值 <5mW/cm2
(14)工作环境 温度15-40℃,相对湿度≤60%,无腐蚀性气体
(15)冷却水  >37L/Min


应用范围

高品质单晶金刚石、多晶金刚石的批量生长。

多种薄膜的CVD制备、材料表面处理和改性、低温氧化物的生长等。

适合光学、电子、工具级金刚石膜或单晶、石墨烯等的产业化生产,材质表面处理、低温氧化物的生长等。


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