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HMPS-2150S微波等离子体CVD设备
HMPS-2150S微波等离子体CVD设备

沃特塞恩旗下的和瑞微波事业部专业从事微波能、微波等离子体应用技术研发及MPCVD设备生产、具有多项自主知识产权……,我司生产的这款型号为HMPS-2150S微波等离子体CVD设备具有以下优势特点:

. 微波反应腔新型设计,功率密度大。

. 产品沉积速率快、沉积质量高、沉积面积超过3inch。

. 开关型微波功率源,微波功率输出稳定性高。

. 性能先进,安全、可靠性强、重现性好,操作简便。

. 多参数实时监测、采集与记录,PLC屏幕控制,多重联锁保护与报警。

技术规格
(1)型号HMPS-2150S
(2)电源AC380±10% V 三相五线制 50Hz,额定输入<25KVA
(3)微波输出功率0.5~6kW 连续可调
(4)功率稳定度  ≤±1%(@满功率)
(5)纹波≤1%
(6)微波频率   2450MHz±50MHz
(7)测温方式     红外300~1400℃,控制精度±5℃
(8)极限真空度 6×10-6torr
(9)腔体内工作压力   7torr~250torr
(10)自动气压控制0.1torr
(11)等离子放电区域 Φ≥100mm
(12)均匀沉积区域 Φ≥80mm
(13)工作气氛五路(可用户定制)
(14)微波泄漏值 <5mW/cm2
(15)工作环境  温度15~40℃,相对湿度≤60%,无腐蚀性气体
(16)冷却水  >46L/Min


应用范围

适合光学、电子、工具级金刚石膜或单晶、石墨烯等的沉积,材质表面处理、低温氧化物的生长等。


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