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等离子刻蚀的原理是什么?

常见问题

2020-09-25 10:07:51

来源:整合与网络

作者:wattsine

首先我们了解下什么是等离子刻蚀

等离子刻蚀即是利用气压为10~1000帕的特定气体(或混合气体)的辉光放电,产生能与薄膜发生离子化学反应的分子或分子基团,生成的反应产物是挥发性的。它在低气压的真空室中被抽走,从而实现刻蚀。

等离子刻蚀的原理可以概括为以下几点:

  ●在低压下,反应气体在射频功率的激发下,产生电离并形成等离子体,等离子体是由带电的电子和离子组成,反应腔体中的气体在电子的撞击下,除了转变成离子外,还能吸收能量并形成大量的活性基团(Radicals)

  ●活性反应基团和被刻蚀物质表面形成化学反应并形成挥发性的反应生成物

  ●反应生成物脱离被刻蚀物质表面,并被真空系统抽出腔体。

  在平行电极等离子体反应腔体中,被刻蚀物是被置于面积较小的电极上,在这种情况,一个直流偏压会在等离子体和该电极间形成,并使带正电的反应气体离子加速撞击被刻蚀物质表面,这种离子轰击可大大加快表面的化学反应,及反应生成物的脱附,从而导致很高的刻蚀速率,正是由于离子轰击的存在才使得各向异性刻蚀得以实现。


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