常见问题
来源:wattsine
作者：沃特塞恩微波源
远程等离子体源（RPS）是一种用于产生等离子体的装置，它通常被用于在真空环境中进行表面处理、材料改性、薄膜沉积等工艺。如在CVD等薄膜设备中，RPS与设备腔体连接，进行分子级的清洗。在晶圆制造过程中，即使微米级的灰尘也会造成晶体管污染，导致晶圆废片，因此RPS的清洁性能尤为重要。
微波等离子体气相沉积（MPCVD）的优点是什么？
为什么说微波具有选择性加热的特点？
