技术支持> 常见问题 >400K的和13.56Mhz的等离子清洗有什么不同?
400K的和13.56Mhz的等离子清洗有什么不同?

常见问题

2020-07-21 10:17:36

来源:wattsine

作者:wattsine

400K的和13.56Mhz的等离子体产生的自偏压不同:

激发频率为40kHz的超声等离子体的自偏压为1000V左右,13.56MHz的射频等离子体的自偏压为250V左右,2.45GHz的微波等离子体的自偏压很低,只有几十伏。


400K的和13.56Mhz的等离子体的机制不同:

超声等离子体发生的反应为物理反应,射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应,微波等离子体发生的反应为化学反应。但因为40KHz为较早的技术,其射频匹配后能量消耗过大,实际作用到清洗物上的能量不足原有能量的1/3。因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗


微波是等离子体产生的方法之一,微波等离子体无电极、大体积、运行气压宽、低能耗、高效率和低成本等优点,其等离子体发生室和处理室可分合,工艺灵活。微波等离子体具有其他等离子体难以比拟的优势和特点。

wsps-2450-2k-CCWA-640




沃特塞恩固态微波功率源作为专用于微波等离子体的微波能量设备,目前2.45GHz频率的产品有1Kw、1.5Kw、2Kw、3Kw、6Kw等各种功率大小的微波源产品。我们还可以根据用户需求定制!

返回列表 >
相关问题:


My title page contents