美国宝石学院 (GIA)曾经说过：“培育钻石现在正成为许多人的新选择，因为它们具有与天然钻石相同的美感和特性，而且通常更实惠”。

培育钻石又名实验室培育钻石，顾名思义，就是在实验室中生产出来的的钻石。目前制造培育钻石的方法主要有两种：高温高压法（HPHT）和化学气相沉积法（CVD）。今天，作为国内MPCVD培育设备厂家，沃特塞恩微波源就带大家了解一下CVD技术与HPHT技术哪个更好更适用呢？

CVD和HPHT两者原理？

化学气相沉积（ CVD ） 技术：通常是在高温等离子的作用下，含碳气体被离解，碳原子在基底上沉积成钻石膜。

单晶钻石通常是碳原子在钻石基底上沉积而形成。含碳气体通常是指含氮、甲烷和氢的混合气体，甲烷是合成钻石碳原子的来源，氮可以增加生长速度，氢可以抑制石墨的形成。通常CVD 合成钻石是在低压高温条件下进行， 压力一般小于一个大气压， 温度在1 000 ℃左右。

高温高压（ HPHT ） 技术：高温高压技术完全模拟天然钻石的生长过程， 在地上重现碳元素层的反应并将石墨转换成钻石。

HPHT 法（温度在1 400 ℃ -1 700 ℃ 、 压力在5.2GPa-5.6GPa ） 钻石是指模拟天然钻石生长的环境， 在六面体高压机内，以石墨、金刚石粉或石墨 - 金刚石粉为碳源，在高温高压、 金属触媒等生长环境中形成的等轴晶系晶质体。
生长过程就是顶压机生长舱高温区放入高纯度的石墨作碳源，在低温区放置钻石籽晶。在一定的温度梯度驱动下，碳源从高温处的高浓度区向对低温处的低浓度区扩散，在低温区的钻石籽晶处于过饱和而结晶，然后冷却取出，采用浓硝酸清除钻石表面的杂质。

CVD和HPHT两者的优劣势？

实际上两种技术各有优劣势，hthp工艺的特点是经过多年的沉淀，技术成熟产量较高，劣势是部分钻石内含有铁镍触媒金属元素。cvd工艺特点是后起之秀技术新，但净度控制不错，包体主要是石墨和非晶质碳，长出的钻石不含任何铁镍元素，劣势是作为一种较为新型的培育钻石的方法，目前产量没有HPHT高。毕竟一项新技术都需要一定的时间去发展与沉淀。

不过作为消费者在购买培育钻石的时候，MPCVD设备厂家提醒你无需考虑这两种合成钻石的区别，HTHP和cvd两种都是合成钻石的方法，成品钻石的色泽，硬度，化学性质和物理性质都和天然钻石一样，所以在购买时候你只需要考虑颜色，克拉数符合你的要求就好了