等离子体是正离-74n电子的密度大致相等的电离气体，整体呈电中性。其由离子、电子、自由激进分子、光子以及中性粒子组成，是物质的第四态。

等离子清洗是用等离子体通过化学或物理作用对工件表面进行分子水平处理，去除沾污，改善表面性能的工艺过程。对应不同的污染物，应采用不同的清洗工艺。根据选择的工艺气体不同，分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。

我们为什么要选用微波等离子体清洗技术呢？

微波等离子清洗技术作为一种精密千法清洗技术，可以有效去除这些污染物，改善材料表面性能，增加材料表面能量。

微波等离子体技术中使用的常见原料气体有：O2、H2、N2、Ar、CF4等

微波等离子体清洗究竟有哪些显著优点呢？

1、不会侵蚀被清洗材料

2、不会污染物沉积（二次污染）

3、不会产生电子破坏（低偏置电压）

4、清除干净则自动停止反应