MPCVD应用领域
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微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)的谐振腔内没有内部电极,可以避免电极放电所产生的污染,它的运行气压范围比较宽,所产生等离子体密度高、区域大,稳定度高,且不与真空器壁接触,从而避免了器壁对薄膜的污染……

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微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)的谐振腔内没有内部电极,可以避免电极放电所产生的污染,它的运行气压范围比较宽,所产生等离子体密度高、区域大,稳定度高,且不与真空器壁接触,从而避免了器壁对薄膜的污染。因此微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)以其独特的优点成为目前最有发展前景的高质量金刚石薄膜沉积方法之一。


在以往,人们习惯性用熟知的磁控管功率源来应用于MPCVD系统中,随着技术的快速发展,用固态射频微波功率源替代磁控管方案在MPCVD系统中的应用已经成为了一个新趋势。



固态微波源在MPCVD系统中的应用框架图示(以6kW为例)

 



固态微波源在MPCVD系统中的应用优势分析


在MPCVD装置中,微波频率、腔体尺寸、样品基台等各种因数都会导致腔体内的电场分布和等离子状态和分布,以下是来自太原理工大学某学士的数据分析:

图片1


(图一)


在MPCVD装置中,即便只有10MHz的频率变化,也会引起腔体内电场和等离子强度以及分布状态的强烈变化


图片2

图(二)

在MPCVD装置中,谐振腔的尺寸引起腔体内电场和等离子强度以及分布状态的强烈变化

图片3


(图三)

在MPCVD装置中,样品基台的位置引起腔体内电场和等离子强度以及分布状态的强烈变化




而沃特塞恩固态功率源因其频率、相位可控、我们可以通过调整微波源的频率和相位来弥补腔体尺寸、样品基台等各种变化导致的电场分布和等离子状态的分布和改变。

采用沃特塞恩固态功率源的MPCVD装置,不会因为更换功率源导致装置的工作状态发生变化,而需要重新调试和设置装置的工作参数。


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